離子濺射/蒸碳一體機  濺射蒸碳儀

型號：GH/ETD-2000C

• 技術(shù)參數(shù)

• 北京離子濺射/蒸碳一體機配置參數(shù)如下： 
  
  - 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） 
  - 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H） 
  - 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H） 
  - 樣品臺： 50mm (D) 
  - 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar 
  - 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào) 
  - 濺射電流： 0-50mA 
  - 濺射定時： 1-9999S 
  - 蒸碳電流 0-10A(AC) 
  - 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）

• 北京離子濺射/蒸碳一體機主要特點

• 在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。

• 儀器介紹

• ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。 
  
  滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。

• 技術(shù)參數(shù)

• 配置參數(shù)如下： 
  
  - 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） 
  - 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H） 
  - 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H） 
  - 樣品臺： 50mm (D) 
  - 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar 
  - 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào) 
  - 濺射電流： 0-50mA 
  - 濺射定時： 1-9999S 
  - 蒸碳電流 0-10A(AC) 
  - 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）

• 主要特點

• 在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。

• 儀器介紹

• ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。 
  
  滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。

• 技術(shù)參數(shù)

• 配置參數(shù)如下： 
  
  - 儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） 
  - 真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H） 
  - 靶（上部電極）： 50mm×0.1mm（D×H） 
  - 樣品臺： 50mm (D) 
  - 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar 
  - 工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào) 
  - 濺射電流： 0-50mA 
  - 濺射定時： 1-9999S 
  - 蒸碳電流 0-10A(AC) 
  - 真空泵： 4升兩級機械旋轉(zhuǎn)泵（極限真空2×10-2mbar）

• 主要特點

• 在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。

• 儀器介紹

• ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計而成的，zui簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。 
  
  滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備和非導體材料實驗電極制作。